应用场景

lECR电子回放共振 Electron Cyclotron Resonance

l大脉冲磁控溅射 (High Power Impulse Magnetron Sputtering)

l磁控管放电Magnetron Discharge

l螺旋波源Helicon Source

l直流辉光放电等离子体DC Glow Discharge Plasma

l脉冲等离子体Pulsed Plasma 

l平行板射频等离子体Parallel Plate RF Plasma

l电感耦合等离子体Inductively Coupled Plasma

测量指标

l悬浮电位Floating Potential

l等离子体电势Plasma Potential

l电子能量分布函数Electron Energy Distribution Function, EEDF

l德拜长度 Debye length

l电子温度Electron Temperature，≤10eV

l电子密度electron density，范围 10 14 ~10 19㎥

l离子密度Ion density, 范围10 14 ~10 19 ㎥

支持定制，根据等离子体的产生方式（RF/DC）

l探针材料：钨，钼，铂，钽等

l探针开关：圆柱形，平板形

软件功能

l支持手动、半自动、全自动数据分析数据

l图形化显示多种曲线（温度，密度，电势等随时间、距离等）

l支持在线处理（全自动模式）与离线分析

l对数据曲线的标准数学操作

l支持放电气体，针尖面积的设置

硬件参数：

l扫描电压-100V至100V，步长0.2V

l最大电流：4A

l通道数：3路，通过对等离子体X，Y和Z方向的同时采集，实现等离子体特性的空间分布测量和时间演化分析（支持定制，最多8通道）

l支持外部TTL电平触发

l步进电机控制探针自动移动并同步扫描（移动距离支持定制）